단·홈·경사면 전용 반도체 식각공정 폴리싱 머신, 미국 시장 진출
【창원=2026년 5월 7일】 반도체·디스플레이·영구자석·배터리 산업용 정밀가공 장비 전문 제조사 ㈜새한나노텍(대표 안국진)이 자사가 독자 개발·제조한 단(Step) 폴리싱 머신(모델명 ANT-PL 550)을 미국 반도체 부품 시장에 공급한다고 7일 밝혔다. 납품은 2026년 하반기로 예정되어 있다.
이번 미국 시장 진출은 새한나노텍이 독자개발해 온 폴리싱 기술이 한국·중국에 이어 북미 시장에서도 상용성을 인정받은 사례로, 미국의 반도체 공급망 재편(reshoring) 흐름과 맞물려 국내 정밀가공 장비의 본격 해외 진출 흐름으로 평가된다.
▲ 단 폴리싱 머신 (모델: ANT-PL 550)
단·홈·경사면 일체 폴리싱 — 수작업 한계를 기계로 돌파
새한나노텍의 단 폴리싱 머신(ANT-PL 550)은 반도체 식각(etching) 공정에 투입되는 부품의 단(段), 홈(groove), 경사면(slope) 등 복잡한 3차원 형상을 한 번의 셋업으로 자동 폴리싱할 수 있도록 설계된 정밀 장비다.
기존에 이런 복잡 형상은 숙련공의 수작업에 의존해야 했고, 그에 따라 작업자별 편차·재작업률·생산성 한계가 따랐다. 새한나노텍은 자체 연구 개발 기반의 자동 제어와 정밀 연마 기술을 결합해, 균일한 표면 품질로 가공하는 양산형 솔루션을 구현했다.
가공 가능 소재
- 실리콘(Si), 실리콘카바이드(SiC) — 식각 챔버 내 전극·링·디스크 등 핵심 소모성 부품
- 쿼츠(Quartz) — 광학·플라즈마 장비 부품
- 세라믹(AlN, Al₂O₃ 등) — 절연·내플라즈마 부품
한국 및 중국 반도체 부품 제조업체에 누적 50대 이상이 공급되어 안정성과 가공 정밀도가 검증된 모델이다.
▲ 실리콘(Si) 소재 경사면 폴리싱
식각공정 '파티클 감소'에 직결 — 수율을 만드는 폴리싱
이 장비가 시장의 관심을 받는 핵심 이유는 단순한 표면 마감이 아니라 반도체 식각공정의 수율을 직접 좌우하는 '파티클(particle) 컨트롤'에 있다.
식각공정 부품은 반도체 챔버 내부에서 고온·고진공·반응성 가스의 혹독한 환경에 노출된다. 부품 표면에 미세 손상이 있으면 가스 흐름과 충돌해 파티클이 떨어져 나오고, 이는 곧 웨이퍼 오염과 수율 저하로 직결된다.
일반적인 그라인딩(grinding) 가공은 표면에 미세 크랙과 잔류 응력을 남겨 파티클 발생의 원인이 된다. 반면 새한나노텍의 단 폴리싱 머신은 데미지를 최소화한 폴리싱 공정을 통해 파티클 발생을 근본적으로 억제하고자 한다.
새한나노텍 관계자는 "식각공정은 반도체 수율에 직접적인 영향을 주는 공정으로, 폴리싱 공정을 통해 Si, SiC 소재 부품의 완성도를 향상시키는 것이 중요하다"고 설명했다.
회사 소개
㈜새한나노텍은 2000년 경상남도 창원에서 설립된 정밀공작기계 전문 제조사로, 반도체·디스플레이·희토류 영구자석·배터리 산업에서 활용되는 공작기계를 25년간 독자 개발·제조해 왔다. 보유 핵심 장비군은 미세홀 가공(양면 동시 드릴링), 다이아몬드 와이어 소잉, 그라인딩, 단 폴리싱, 나노 임프린팅 등이다.
기업부설연구소를 설립하여 국책과제를 수행하고 있으며, ISO 9001, INNOBIZ 인증 등을 받았다.
단·홈·경사면 전용 반도체 식각공정 폴리싱 머신, 미국 시장 진출
【창원=2026년 5월 7일】 반도체·디스플레이·영구자석·배터리 산업용 정밀가공 장비 전문 제조사 ㈜새한나노텍(대표 안국진)이 자사가 독자 개발·제조한 단(Step) 폴리싱 머신(모델명 ANT-PL 550)을 미국 반도체 부품 시장에 공급한다고 7일 밝혔다. 납품은 2026년 하반기로 예정되어 있다.
이번 미국 시장 진출은 새한나노텍이 독자개발해 온 폴리싱 기술이 한국·중국에 이어 북미 시장에서도 상용성을 인정받은 사례로, 미국의 반도체 공급망 재편(reshoring) 흐름과 맞물려 국내 정밀가공 장비의 본격 해외 진출 흐름으로 평가된다.
단·홈·경사면 일체 폴리싱 — 수작업 한계를 기계로 돌파
새한나노텍의 단 폴리싱 머신(ANT-PL 550)은 반도체 식각(etching) 공정에 투입되는 부품의 단(段), 홈(groove), 경사면(slope) 등 복잡한 3차원 형상을 한 번의 셋업으로 자동 폴리싱할 수 있도록 설계된 정밀 장비다.
기존에 이런 복잡 형상은 숙련공의 수작업에 의존해야 했고, 그에 따라 작업자별 편차·재작업률·생산성 한계가 따랐다. 새한나노텍은 자체 연구 개발 기반의 자동 제어와 정밀 연마 기술을 결합해, 균일한 표면 품질로 가공하는 양산형 솔루션을 구현했다.
가공 가능 소재
한국 및 중국 반도체 부품 제조업체에 누적 50대 이상이 공급되어 안정성과 가공 정밀도가 검증된 모델이다.
식각공정 '파티클 감소'에 직결 — 수율을 만드는 폴리싱
이 장비가 시장의 관심을 받는 핵심 이유는 단순한 표면 마감이 아니라 반도체 식각공정의 수율을 직접 좌우하는 '파티클(particle) 컨트롤'에 있다.
식각공정 부품은 반도체 챔버 내부에서 고온·고진공·반응성 가스의 혹독한 환경에 노출된다. 부품 표면에 미세 손상이 있으면 가스 흐름과 충돌해 파티클이 떨어져 나오고, 이는 곧 웨이퍼 오염과 수율 저하로 직결된다.
일반적인 그라인딩(grinding) 가공은 표면에 미세 크랙과 잔류 응력을 남겨 파티클 발생의 원인이 된다. 반면 새한나노텍의 단 폴리싱 머신은 데미지를 최소화한 폴리싱 공정을 통해 파티클 발생을 근본적으로 억제하고자 한다.
회사 소개
㈜새한나노텍은 2000년 경상남도 창원에서 설립된 정밀공작기계 전문 제조사로, 반도체·디스플레이·희토류 영구자석·배터리 산업에서 활용되는 공작기계를 25년간 독자 개발·제조해 왔다. 보유 핵심 장비군은 미세홀 가공(양면 동시 드릴링), 다이아몬드 와이어 소잉, 그라인딩, 단 폴리싱, 나노 임프린팅 등이다.
기업부설연구소를 설립하여 국책과제를 수행하고 있으며, ISO 9001, INNOBIZ 인증 등을 받았다.
CONTACT
㈜새한나노텍 영업팀
📧 info@saehannanotech.com
📞 +82-55-586-1331
🌐 www.saehannanotech.com (한국어 외 7개 언어 운영)